Celeri progressus in campis notitiarum et optoelectronicarum continuam adaequationem technologiae chemicae mechanicae expolitionis (CMP) promovit.Praeter apparatum et materias, comparatio superficierum ultra-praecisionis magis dependet a consilio et productione industriae magnarum partium abrasivarum efficientiae, necnon praeparatio debitae slurriae politurae.Et cum continua emendatione superficiei processus accurationis et efficaciae requisita, requisita ad altae efficientiae materias expolitionis altius et altiores sunt questus.Cerium dioxidum late in machinis microelectronicorum machinarum et praecisione partium opticarum superficierum praecisione adhibitum est.
Cerium oxydatum expolitio pulveris (VK-Ce01) poliendi pollinis utilitates habet validae sectionis facultatem, altam politionem efficientiam, altam politionem accurate, bonam politionem qualitatem, ambitum operantem mundum, maculam humilem, vitam longam servitii etc., et late in usu est. optica praecisio poliendi et CMP, etc. ager locum gravissimum obtinet.
Proprietates fundamentales oxydi cerii;
Ceria, quae etiam cerium oxydatum est, est oxydatum cerii.Hoc tempore, valor cerii +4 est, et formula chemica CeO2.Productus purus est pulvis albus vel crystallus cubicus, et productum immundum leve est flavum vel etiam roseum ad pulvereum rufo-brunneum (quia inest vestigium ponderis lanthani, praseodymi, etc.).In cella temperatura et pressione ceria stabili oxydatum cerii est.Cerium etiam +3 valentiam Ce2O3 formare potest, quae instabilis est et stabilis CeO2 cum O2 formabit.Cerium oxydatum leviter in aqua, alcali et acido solutum est.Densitas est 7.132 g/cm3, punctum liquescens 2600℃, punctum fervens 3500℃ est.
Expolitio mechanismi cerii oxydi
Duritia particularum CeO2 non alta est.Duritia cerii oxydi cerii, ut patet in tabula infra, multo minus est quam oxydatum adamantinum et aluminium, et praeterea oxydorum zirconii et oxydi pii, quod oxydi ferrici aequiparatur.Non est igitur technice fieri posse materias oxydatum siliconis fundatae expolire, ut vitrum silicatum, vicus vitrum, etc., cum ceria cum duritie humili tantum ex parte mechanica.Nihilominus, cerium oxydatum nunc est malle politionem pulveris ad expolitionem materiae oxydi siliconis fundatae vel etiam materias nitridae siliconis.Perspicuum est oxydatum expolitio cerium etiam alios effectus praeter mechanicos effectus habere.Duritia adamantis, quae communis usus est materiae molendi et poliendi, plerumque vacationes oxygenii habet in cancello CeO2, quae proprietates physicas et chemicas mutat et certam ictum in poliendis proprietatibus habet.Vulgo oxydatum cerium poliendi pulveris certam quantitatem oxydi terrae rarae aliarum continent.Praeseodymium oxydatum (Pr6O11) etiam structuram cubicam faciei centrum habet, quae ad expolitionem apta est, ceterae vero oxydi terrae lanthanidis rarae facultatem poliendi non habent.Sine mutatione crystalli structurae CeO2, solidam solutionem cum ea intra certum ambitum formare potest.Pro summo puritate oxydorum nano-cerii pollinis poliendi (VK-Ce01), altior puritas oxydi cerii (VK-Ce01), maior expolitio facultatis et vitae serviendi longior, praesertim pro vitro duro et vicus optici pro lentibus vitreis. longum tempus.Cum expolitio cyclica, expedit uti summus puritatis cerium oxydi politionis pulveris (VK-Ce01).
Applicatio oxydi cerii pulveris poliendi;
Cerium oxydatum poliendi pulveris (VK-Ce01), maxime ad vitream poliendam adhibita, maxime in hisce agris adhibetur;
1. Vitra, lens expolitio vitrea;
2. Lens optica, vitrum opticum, lens, etc.;
3. Telephonum mobile velamentum vitreum, superficies specula (watch door), etc.;
Monitor LCD omnia genera LCD velum;
Rheni, adamantes calidi (cards, adamantes jeans), globos accensis (chandeliers deliciae in magna aula);
6. Crystal arcium;
7. partiales expolitio Jade
Cerium oxydatum vena derivata expolitio;
Superficies oxydi cerii cum aluminio tergitur ad expolitionem vitri optici signanter emendandam.
The Technology Research and Development Department of UrbanMines Tech.Limitata, proposita compositionis et superficiei modificationis particulas poliendi modi sunt principales et aditus ad efficientiam et diligentiam emendandi CMP expolitio.Quia particula proprietatibus componendis elementorum multi- stantium versari potest, et dissipatio stabilitatis et expolitionis efficientia slurry expolitio superficiali modificatione emendari potest.Praeparatio et expolitio effectus pulveris CeO2 cum TiO2 tincto plus quam 50% efficaciam expolitio emendare potest, eodemque tempore defectus superficies 80% minuuntur.Expolitio synergistica effectus oxydi CeO2 ZrO2 et SiO2 2CeO2 compositorum;quare technologia praeparatio oxydi ceriae micro-nano compositae magni momenti est ad evolutionem novarum materiarum expolitionum et ad disquisitionem mechanismum poliendi.Praeter doping quantitatem, status et distributio dopantis in particulis synthesatis multum etiam afficit earum superficierum proprietates ac expolitio effectus.
Inter eos, synthesis expoliendi particularum cum claing structura pulchrior est.Ideo electio syntheticarum methodorum et condicionum etiam magni momenti est, praesertim eae methodi simplices et sumptus efficaces.Cerium carbonas hydratum utens ut materia rudis principalis, aluminium oxydatum cerium poliendi particulae solidae periodi mechanochemicae infectum perstringebantur.Sub actione vi mechanica, magnae particulae carbonas hydratae cerii in particulas minutissimas adglutinari possunt, aluminium nitrate cum aqua ammoniaca reflectitur ad particulas amorphos colloidales formandas.Particulae colloidales facile adhaerent particulis cerii carbonatis, et post siccationem et calcinationem, aluminium doping potest in superficie cerii oxydi.Haec methodus adhibebatur ad componendas particulas cerium oxydatum cum variis aluminii moles dopingis, eorumque expolitio facta denotata est.Postquam quantitas debita aluminii superficiei particulis oxydatis cerii addita est, valor negativus potentialis superficiei augeretur, qui vicissim hiatum inter particulas abrasivas fecit.Fortior est repulsio electrostatica, quae emendationem laesurae suspensionis stabilitatis promovet.Eodem tempore, mutua adsorptio inter abrasivas particulas et positivo iactum mollem per Coulomb attractum firmabitur, quae adiuvat mutuam contactum inter laesuram et mollem iacum in superficie vitri politi ac promovet. de emendatione expolitio.